Коммерциализация CVD технологии производства алмазных пластин

Название проекта: Коммерциализация CVD технологии производства алмазных пластин
Кластер: ЯдерТех
Технологические тэги, ключевые слова: CVD алмазы, CVD синтез, плазмохимический реактор, держатель подложки
Название: Держатель подложки
Краткое описание: Синтез алмазных пленок при высокой однородности температурного поля держателя подложки.
Преимущество технологии: Синтез алмазных пленок большой площади с высокой степенью однородности по толщине.
Применения технологии: СВЧ-реакторы плазменного парофазного химического осаждения пленок или покрытий различных материалов на подложках, в частности, для получения углеродных (алмазных) пленок, покрытий
Детальное описание технологии: Конструкция держателя подложки обеспечивает однородное температурное поле на поверхности держателя, а, следовательно, и на самой подложке, что позволяет синтезировать однородные по толщине покрытия.

Номер международной заявки: PCT/RU2015/000749
Название международной заявки: Держатель подложки
Дата подачи международной заявки: 09.11.2015
Краткое описание международной заявки (Реферат): Изобретение относится к СВЧ технике и может быть использовано для изготовления держателей для подложек, на которых формируют методом плазменного парофазного химического осаждения пленки или покрытия различных материалов, в частности, углеродные (алмазные) пленки или покрытия. Техническим результатом изобретения является повышение однородности распределения температурного поля по поверхности держателя, обеспечивающего однородность роста пленки по толщине. Держатель подложки, выполненный в форме диска из тугоплавкого высокотемпературного переходного металла. При этом верхняя поверхность держателя, выполнена шлифованной, а нижняя поверхность держателя содержит кольцевые пазы, образованные концентрическими окружностями.

Организация / Компания: СВД.Спарк
Страна: Россия